◎モレキュラー・インプリンツ社が半導体メモリー生産向けのモジュールを初出荷
AsiaNet 52807
共同JBN 0460 (2013.4.23)
【オースティン(米テキサス州)2013年4月23日PRN=共同JBN】最新鋭の半導体リソグラフィー(リンク)のテクノロジーリーダーであり、ナノパターニング(リンク)システム、ソリューションのマーケットおよびテクノロジーリーダーであるモレキュラー・インプリンツ社(Molecular Imprints, Inc.、MII)23日、同社の装置パートナーのステッパー・システムに組み込まれることになる3つの最新インプリント・モジュールを今四半期に初出荷すると発表した。モジュールには、MIIが特許を保有する最新のJet and Flash(商標)Imprint Lithography(J-FIL、商標)技術が含まれており、サブ20nmディメンションの最新半導体メモリー・デバイスを大量生産するメーカーにとって必要な性能を提供する。
(Logo: リンク)
モレキュラー・インプリンツ社のマーク・メリアー・スミス最高経営責任者(CEO)は「当社の最新インプリント・モジュールの出荷には、オンボード・レジスト・フィルトレーション、リアルタイムの精密な機械コントロール、アップグレードされたレジスト・ジェッティング(リンク)システムとともに、強化された拡大コントロールとエクスポージャー技術が組み込まれている。このシステムは欠損率、スループット、オーバーレイ精度、総所有コストを大幅に向上させる。これらすべての向上は、より低価格のシステム・プラットフォームおよびより小さな設置面積を提供したうえで、達成された。製品設計および開発で素晴らしい仕事を成し遂げた当社の開発・製造チームを祝福するとともに、当社の装置パートナーから受けたサポートと協力に謝意を表したい。今年中にはこれらのシステムが当社の半導体顧客の生産施設に導入されることを期待する」と語った。
▽モレキュラー・インプリンツ社(Molecular Imprints, Inc.)について
モレキュラー・インプリンツ(MII)は半導体、ディスプレー、ハードディスクドライブ(HDD)業界の高解像度、低所有コストのナノパターニング・システムおよびソリューションのテクノロジーリーダーである。MIIは革新的なJet and Flash(商標)Imprint Lithography(J-FIL、商標)技術とIntelliJet(商標)材料アプリケーションを活用して、ストレージ、メモリー機器の大量パターニング・ソリューションの世界的な市場、テクノロジーリーダーとなるとともに、ディスプレー、クリーンエネルギー、バイオテクノロジー、その他業界での新興市場を可能にしている。MIIは手ごろな価格で互換性があり、サブ10nm解像度まで拡張可能な包括的なナノパターニング・ソリューションを提供して、ナノスケールのナノ製造を可能にしている。詳しい情報、Twitterでのフォローはリンクを参照。
▽問い合わせ先
Paul Hofemann
Molecular Imprints, Inc.
+1-512-339-7760 X311
phofemann@molecularimprints.com
ソース:Molecular Imprints, Inc.
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