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ブライオンとニューフレア、マスク製造装置の技術革新に向けた共同開発体制を構築―ブライオンのモデルベース計算機リソグラフィとニューフレアの最先端マスク装置が 融合することで、半導体マスク製造技術が大幅に強化

Santa Clara, California, Nov 5, 2008 - ASMLの子会社のブライオンテクノロジーズ インコーポレイテッド (本社:米国カルフォルニア州、以下「ブライオン」) とニューフレアテクノロジー (本社:神奈川県横浜市、代表取締役:三浦康明、以下「ニューフレア」) は本日、計算機リソグラフィ技術とマスク装置技術を統合させ、次世代半導体マスク用の新しいDFM (Design for manufacturing) 技術を開発すると発表しました。

Santa Clara, California, Nov 5, 2008 - ASMLの子会社のブライオンテクノロジーズ インコーポレイテッド (本社:米国カルフォルニア州、以下「ブライオン」) とニューフレアテクノロジー (本社:神奈川県横浜市、代表取締役:三浦康明、以下「ニューフレア」) は本日、計算機リソグラフィ技術とマスク装置技術を統合させ、次世代半導体マスク用の新しいDFM (Design for manufacturing) 技術を開発すると発表しました。

先端半導体設計の検証および修正に幅広く使われているブライオンのTachyonTM技術が、今後の32nmノードおよびそれ以降のマスク装置技術に大きな革新をもたらします。この共同開発を受けて開発された製品は、マスク描画装置とマスク検査装置における世界のリーデイングカンパニーであるニューフレアが市場に投入します。

ニューフレア 取締役 検査装置統括部長の臼田欣也は、「ブライオンに、マスク技術の進展に寄与いただける事に大変感謝しています。業界をリードする2社が力を合わせることで、本共同開発を成功に導き、結果的に業界全体に恩恵をもたらすと確信しています」と語っています。

ブライオンおよびニューフレアの共同開発につき、株式会社東芝セミコンダクター 社プロセス技術推進センター半導体プロセス開発第二部部長の東木達彦氏は、「当社はブライオンの計算機リソグラフィとニューフレアのマスク描画装置およびマスク検査装置のユーザーであり、今回の共同開発をサポートしています。この成果によりマスクの品質が向上し、最終的に弊社製品の歩留まり向上と市場投入までの期間短縮が実現するものと期待しています」と話しています。

ブライオンのゼネラルマネージャー ジム・クーメン (Jim Koonmen) は、「この新規プロジェクトにニューフレアおよび東芝と共に取り組んでいけることを大変嬉しく思います。ブライオンの計算機リソグラフィ技術は、最先端半導体デバイス製造における主要技術としてすでに重要な役割を果たしていますが、この度の我々の技術協力により、より微細で強力なデバイスの製造能力が加速度的に高まるものと確信しています」と述べています。

ニューフレアテクノロジーについて
ニューフレアテクノロジーはマスク描画装置、マスク検査装置およびエピタキシャル成長装置を提供しています。マスク描画装置においては世界市場のトップシェアを誇ります。ニューフレアテクノロジー社やその製品の詳細につきましては www.nuflare.co.jp をご覧下さい。

ブライオンテクノロジーズについて
ブライオンテクノロジーズはASMLの子会社の一つであり、集積回路用の計算機リソグラフィの分野における業界リーダーです。ブライオンのTachyonプラットフォーム、OPC、およびOPC検証システムは、半導体製造のためのチップ設計、フォトマスク製造、ウェハー露光の一環を担います。ブライオンの本社はカリフォルニア州サンタクララにあります。さらに詳しい情報は www.brion.com または www.asml.com をご覧ください。

本件に関するお問合せ先

ブライオンテクノロジーズ株式会社
代表取締役社長 菊池 憲明
TEL:03-5793-3393
e-mail:noriaki.kikuchi@brion.com

ニューフレアテクノロジーに関するお問合せ先

株式会社ニューフレアテクノロジー
取締役 検査装置統括部長 臼田欣也
TEL:045-769-0967
e-mail:usuda.kinya@nuflare.co.com

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