東芝とNEC、半導体マスク欠陥検査技術開発の合弁会社を設立

ユータック2004年08月11日 17時09分

　東芝は8月11日、NECと共同でフォトマスク（回路原板）欠陥検査装置の技術開発を行う合弁会社「アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー（AMIT）」の設立を発表した。

　今回設立される合弁会社は、45nm世代LSIの製造過程で使用するフォトマスク欠陥検査装置の技術開発を目的としたもの。微細化が進むLSIの歩留まりを向上するため、従来よりも光源の波長が60nm短い198.5nmの遠赤外線を利用した装置の実用化を目指すとしている。

　設立場所は川崎市にある東芝のマイクロエレクトロニクスセンター内で、2005年度中の開発完了を目指すという。

東芝のプレスリリース

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