2002年のシリコンウエハ、出荷面積約19％増

　米半導体製造装置材料協会（SEMI：Semiconductor Equipment and Materials International）が米国時間2月13日に発表した最新調査によると、2002年のシリコンウエハの出荷面積が約47億平方インチで、2001年に比べて19％近く増加した。しかし売上高は55億ドルで、前年比5.8％増にとどまった。

　SEMI会長のStanley Myersによると、新しい12インチ（直径300mm）ウエハの需要はわずかながらも売上高の伸びに貢献した。半導体業界の売上高は2000年に75億ドルを記録したが、ここ2年間は落ち込んでいる。

　SEMIでは出荷面積の伸びに喜んでいるものの、売上高の伸びが鈍化しているためシリコンメーカーが生産規模への投資を控える可能性があるとみている。

　新たに設立される製造工場は、現在の200mmのウエハ製造よりも困難な、直径300mmのウエハの製造に移行しつつある。しかし、製造工場の新設には30億ドル以上もかかり、そのような経済的余裕があるのは米Intelなど数社のみだ。一般的にメーカーは、建設費が年間売上高の3分の1以下でなければ、新しい製造工場の建設は検討しない。

　また、2002年第4四半期のシリコンウエハの出荷面積は、前年同期比29％増の11億平方インチだった。しかし、前期と比べると10％減少した。前期から出荷面積が低下したことについて、SEMIは「主に季節的要因によるもの」と説明した。

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