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◎モレキュラー・インプリンツ社が450mmリソグラフィー完全支援

モレキュラー・インプリンツ 2013年01月18日 14時20分
From 共同通信PRワイヤー

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◎モレキュラー・インプリンツ社が450mmリソグラフィー完全支援

AsiaNet 51870
共同JBN 0048 (2013.1.18)

【オースティン(米テキサス州)2013年1月18日PRN=共同JBN】最先端半導体リソグラフィーのテクノロジーリーダーであるモレキュラー・インプリンツ社(Molecular Imprints, Inc.)(リンク)は18日、450mmシリコンウエハー基板のパターニング能力のある初の最新リソグラフィー・プラットフォームを出荷すると発表した。Imprio(登録商標)450は2012年末時点で半導体メーカーに採用され、現在は半導体業界によるより低コスト450mmへの移行に供する(リンク)ため、複数年ウエハーサービス契約の一環として450mmシリコンウエアハーのプロセス開発要求を支援するため使われている。インテル社(Intel Corporation)のロバート・E・ブルック本社副社長兼Technology Manufacturing Engineering(TME)ゼネラルマネジャーは、1月14日に米カリフォルニア州ハーフムーンベイで開かれた米半導体製造装置材料協会(SEMI)主催のIndustry Strategy Symposium でこれら初の完全パターン化450mmウエハーの一つを展示公開した。

 (Photo: リンク
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モレキュラー・インプリンツのマーク・ミリア-スミス社長兼最高経営責任者(CEO)は「半導体装置およびメーカーの供給チェーンは、このような過渡期にあっては製品とプロセスを開発、最適化するため高品質の完全パターン化された450mmウエハーに早期にアクセスできなければならない。当社特許のJet and Flash(商標)Imprint Lithography(J-FIL(商標))(リンク)技術は、業界が要望する450mm移行の要件に応えることができる現在利用可能な唯一のリソグラフィー・ソリューションである。J-FIL(商標)技術は、単純なシングルパターン化による段階的プロセスに使う10nmへの拡張性を備える極めて優れたラインエッジラフネス(2nm LER, 3 sigma)およびクリティカルディメンジョン(CD)均一性(1.2nm CDU, 3 sigma)による24nmパターニングを実証した。Imprio(登録商標)450プラットフォームは、新たな段階の汎用の基板チャックデザインであり、中断なく継続的に300mmおよび450mmウエハーを処理できる。このグローバルなイニシアチブをサポートできる今回の最新鋭リソグラフィー技術が利用可能になったことで、半導体業界が450mmウエハーに移行するのを少なくとも2年間は早めることになる。複数年かつ数十億ドルの光リソグラフィー開発計画が標準になるような時代にあって、われわれは顧客の発注を受けてからわずかに1年で最新のナノインプリント・プラットフォームを設計、組み立て、配送することができる。私はこのように真に画期的な成果の達成を支援してくれた当社チーム、当社の半導体顧客、供給チェーンに特に感謝の意を表したい」と語った。

J-FIL固有の所有コスト(CoO)の利点は、消費電力を限定するEUV光源、複雑な光学レンズとミラー、超高感度フォトレジストを使う難しい画像化処理を避けることによって達成し、半導体メモリー製造とよく調和する。この新しい450mmパターニング・システムの採用は、当社の最近の多くのモジュール受注の発表と合わせて、モレキュラー・インプリンツがJ-FIL技術を最先端CMOSデバイスの量産にセットする方向に大きく前進していることを表している。

▽モレキュラー・インプリンツ社(Molecular Imprints, Inc.)について
モレキュラー・インプリンツ(MII)は半導体、ディスプレー、ハードディスクドライブ(HDD)業界の高解像度、低所有コストのナノパターニング・システムおよびソリューションのテクノロジーリーダーである。MIIは革新的なJet and Flash(商標)、Imprint Lithography(J-FIL、商標)技術と IntelliJet(商標)材料アプリケーションを活用して、ストレージ、メモリー機器の大量パターニング・ソリューションの世界的な市場、テクノロジーリーダーとなるとともに、ディスプレー、クリーンエネルギー、バイオテクノロジー、その他業界での新興市場を可能にしている。MIIは手ごろな価格で互換性があり、サブ10nm解像度まで拡張可能な包括的なナノパターニング・ソリューションを提供して、ナノスケールのパターニングを可能にしている。

詳しい情報、ツイッターでのフォローはリンクを参照。

▽本社PR接触先
Paul Hofemann
Molecular Imprints, Inc.
+1-512-339-7760 X311
phofemann@molecularimprints.com

ソース:Molecular Imprints, Inc.

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