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LSI試作ウェハを解析する「FabMeister-TG(電気特性評価システム)」を販売開始

TEGの素子電気特性データを可視化し、プロセス最適設計を支援

みずほ情報総研株式会社(本社:東京都千代田区、社長:小原 之夫)は、LSI試作ウェハの素子電気特性データを解析する「FabMeister-TG(電気特性評価システム)」を開発し、半導体デバイスメーカに向けて販売を開始しました。本システムは、LSI試作ウェハの解析の自動化や解析結果の可視化を支援することによって、ウェハの微細化、大口径化に伴い課題となっているプロセス設計の時間短縮を可能にします。さらに、Webベースのクライアントサーバシステムを採用することで、低コストで専用システムの構築・運用を実現しました。

半導体の量産工場を新設するためには、1千億円規模の費用がかかるといわれています。製造現場では、コストを上げずに多種の製品を必要な時に必要な量だけ、Q-TATと表現される短期間で生産することが求められています。また、トランジスタの微細化が進んだ現在では、ウェハ間で発生する“プロセスばらつき”の発生を抑えることが重要課題となっています。現在、プロセスばらつきを抑えるために行う試作ウェハの解析では、TEG(Test Element Group)と呼ばれるテスト用トランジスタを用いるパラメトリックテストの測定データを解析し、所定の性能になるまで設計、実測を繰り返し行う設計手法が取り入れられています。

測定データを解析するにあたり、個々のエンジニアが表計算ソフトなどを用いて独自に解析用のプログラムを組み解析を行っている状況が今も少なくありません。また、半導体製造過程には複数の開発フェーズがあり、異なるフェーズを担当するエンジニア間では解析手法が異なるため、データやナレッジの共有が困難です。さらに、測定データ量はますます膨大になり、表計算ソフトでは対応できなくなりつつあります。これらの問題を解消するためには、複数のエンジニアが、簡易に測定データを解析、可視化、共有することができ、開発から量産まで一貫して適用することができる専用システムが求められています。

みずほ情報総研が開発した「FabMeister-TG(電気特性評価システム)」は、LSI試作ウェハを解析・評価するための専用システムです。300mmの大口径ウェハに対応したものであり、パラメトリックテストによる膨大な測定データを効率良くかつ素早く解析することができます。また、Webベースのシステムであり部署を超えて使用し、解析手法・結果の情報を共有して有効活用することにより設計の効率を大幅に向上することが可能です。さらに、各種設計・製造システムと連携することができ、設計から開発、製造まで一貫したシステムを実現することによって、半導体製造にかかる期間とコストを大幅に削減することができます。

「FabMeister-TG(電気特性評価システム)」は既に300mmウェハ工場をもつ大手半導体デバイスメーカ2社にて導入済みであり、みずほ情報総研では、今後さらに各種ばらつきに対応した解析手法を加え、次世代45nmにも対応する予定です。

■FabMeister-TG(電気特性評価システム)の概要

本システムは、パラメトリックテスターで測定されるTEGの素子特性データを統計的に解析します。チップ内、チップ間、ウェハ間のばらつき原因となる因子を推定し、量産時のばらつきを考慮したプロセス最適設計を支援します。主に以下の機能を持ち、他のシミュレーションツール、EDAツールとデータを連携することもできます。

【解析手順】

(1) 計測データをデータベースから検索・ダウンロードを行う

(2) 計測データからトランジスタの電気特性を決定するデバイスパラメータを抽出しチップ内、ウェハ間、チップ間のばらつきを求める

(3) 解析結果を可視化し、レポートを作成する


【特徴】

・ 解析の自動化機能を搭載

解析手順を記録し、定型化して自動的に各解析を行う機能を搭載している。ベテランの設計者が試行錯誤しながら行う通常解析(特性の温度依存性、ストレス依存性、ゲート長依存性など)の作業手順を自動化することにより、作業の効率化と知識の共有を実現。


・ 安価なシステム構築・運用費用

Webベースのクライアントサーバシステムであり、社内開発システムと比べると安価でシステム構築・運用を実現。


・ 解析結果の可視化機能を搭載

表計算ソフトなどの汎用ツールに比べ、TEGによる測定データの解析結果を可視化するための機能が充実しており、データの選択やグラフ作成条件の入力が容易。電気特性を評価する際に必要となるグラフを迅速に作成できる。


FabMeister-TG(電気特性評価システム)の詳細は、以下のリンク先をご覧下さい

リンク



■ニュースリリースに関するお問い合わせ
みずほ情報総研株式会社
広報室 穂苅 由紀、小山 文彦
TEL: 03-5281-7548
E-mail: info@mizuho-ir.co.jp

■サービス内容に関するお問い合わせ
みずほ情報総研株式会社
エンジニアリングサービス部 山田、近藤
TEL: 03-5281-5314
E-mail: rs13@gene.mizuho-ir.co.jp

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