セイコーエプソン、190億円を投じ新たな研究開発拠点を建設へ

 セイコーエプソンは7月27日、次世代情報関連機器の開発体制強化にあたり、新研究開発拠点を建設すると発表した。同日開催された取締役会で決議されたもの。

 新研究開発拠点(仮称:エプソンイノベーションセンター)は、同社の広丘事業所(長野県塩尻市)敷地内に、総額約190億円をかけて建設されるもの。施設の使用目的は、従来からのプリンタや液晶プロジェクターに加え、ホームイメージングなど新たな領域に関する機器および技術の開発としている。

 建設スケジュールは2004年12月に着工、2006年1月の稼働開始を目標としており、完成後には研究開発本部・生産技術開発本部の本社開発部門および知財本部等の本社開発支援部門、情報画像事業本部の開発部門、映像機器事業部の開発部門、ソフト系開発部門など、情報関連機器の開発に携わる部門が集結する予定だ。

CNET Japanの記事を毎朝メールでまとめ読み(無料)

-PR-企画特集

このサイトでは、利用状況の把握や広告配信などのために、Cookieなどを使用してアクセスデータを取得・利用しています。 これ以降ページを遷移した場合、Cookieなどの設定や使用に同意したことになります。
Cookieなどの設定や使用の詳細、オプトアウトについては詳細をご覧ください。
[ 閉じる ]